Phenom ProX 臺式掃描電鏡在材料研發(fā)中的應用

石墨加工服務與創(chuàng)新中心 (GMSI) 為半導體和 LED 行業(yè)提供產(chǎn)品和技術支持。盡管 GMSI 的 Peter Guercio 和他的同事不是顯微鏡專家，但他們每天都使用 Phenom ProX 臺式掃描電鏡能譜一體機對先進材料進行研發(fā)。

配備有能譜功能（EDS）的 Phenom ProX 臺式電鏡，可用于工藝控制和產(chǎn)品的質(zhì)量檢測。 實時圖像獲取與元素分析功能相結(jié)合，比以前快 8 倍的速度獲取數(shù)據(jù)，對產(chǎn)品改進至關重要。

從外包測試到內(nèi)部分析 ✦

幾年前, GMSI 還是外包所有的掃描電鏡（SEM）測試。因為樣品必須送到外面測試，不僅耽誤時間還耗費資源。4 年前, GMSI 的實驗室購買了飛納 Phenom 臺式掃描電鏡。因此，研發(fā)進度大大提升，不用再浪費時間等待數(shù)據(jù)了。

在半導體和 LED 行業(yè)中，GMSI 使用化學氣相沉積工藝在石墨上生產(chǎn) SiC 薄膜。他們每天使用 Phenom SEM 進行研發(fā)，以及工藝控制和產(chǎn)品質(zhì)量檢測。

使用飛納臺式掃描電鏡的優(yōu)勢 ✦

在實驗室中擁有一臺飛納電鏡可以節(jié)約大量時間。Phenom 用于測量加工工藝的相關參數(shù)，例如薄膜厚度和表面形態(tài)。

飛納電鏡可以立即反饋獲得 SiC 擴散到石墨的厚度和表面晶體結(jié)構(gòu)關鍵數(shù)據(jù)。對 GMSI 來說, 集成導航相機的快速顯微檢查是 Phenom 臺式 電鏡的另一個重要優(yōu)勢。光學導航與電子顯微鏡圖像同步，以顯示缺陷所在的位置，從而可以快速尋找特定的感興趣區(qū)域。

以舊換新加速研發(fā)進度 ✦

GMSI 將他們之前的飛納電鏡更換成配備 EDS 功能的 Phenom ProX 掃描電鏡能譜一體機。EDS 元素分析用于顯示薄膜的元素組成，使 GMSI 可以通過調(diào)節(jié)沉積參數(shù)以獲得最佳化學配比。

最近，得益于 Phenom ProX 的實時圖像獲取和能譜分析功能，使得 GMSI 新產(chǎn)品投入市場的速度提高了八倍。

Peter 解釋到, “如果沒有 Phenom ProX 臺式掃描電鏡，我們不可能開發(fā)出最新的工藝。沒有其他設備可以替代飛納臺式掃描電鏡的重要作用！”

540 倍下，石墨上 SiC 薄膜（白色層）的 SEM 圖像

石墨上 SiC 膜的掃描電鏡圖片。背散射探頭圖像可以顯示原子襯度，圖片上可以看出 SiC 滲入石墨基材中，從而可以有效防止 SiC 脫落。

Phenom 臺式掃描電鏡可以快速觀察晶體結(jié)構(gòu)。SEM 圖片 1000 倍（左）和 3900 倍（右），在缺陷位置仍然存在膜層覆蓋。

石墨加工服務與創(chuàng)新中心有限責任公司（GSMI），是石墨和碳制品的加工和制造行業(yè)領導者。 雖然他們的專長是加工石墨，但他們還為客戶提供其他的制造服務，例如加工塑料、復合材料、金屬和各種特殊材料。